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日本ULVAC爱发科沉积控制器

简要描述:
日本ULVAC爱发科沉积控制器
ULVAC 基于我们长期的经验和技术开发了新型石英晶体沉积控制器。有助于提高气相沉积工艺的质量和可靠性。

更新时间:2025-06-26

访问量:53

厂商性质:经销商

型号:CRTM-R1

品牌ULVAC/日本爱发科产地类别进口
应用领域环保,化工,电子/电池,综合

日本ULVAC爱发科沉积控制器

日本ULVAC爱发科沉积控制器


特征

出色的速率稳定性和分辨率使其适用于低速率控制。

能力值(CI 值)测量功能提高了晶体异常检测能力。

可以同时控制多达 8 个源的气相沉积。(添加选项)

通信方式支持以太网和 RS-232C。

可以保存各种日志数据。数据可以传输到 USB 并在 PC 上进行分析。

应用

金属薄膜或光学薄膜气相沉积的厚度和速率控制

规格

频率测量范围4.00 至 3.00MHz @4MHz
5.00 至 3.50MHz @5MHz
6.00 至 4.50MHz @6MHz
测量分辨率1毫赫兹
显示分辨率1毫赫兹
沉积速率测量范围 *10.000 至 999.9Å/s(0 至 99.99nm/s)
测量分辨率 *20.0028Å/s @4MHz
0.0018Å/s @5MHz
0.0012Å/s @6MHz
显示分辨率 *10.001 Å/秒
薄膜厚度测量范围 *10.000 至 9999kÅ (0 至 999.9μm)
测量分辨率 *20.0028Å @4MHz
0.0018Å @5MHz
0.0012Å @6MHz
显示分辨率 *10.001 千米
传感器频率4MHz、5MHz、6MHz
可安装的传感器数量(单个)2 个(可选择添加一组 2 个传感器,最多 8 个传感器。
可安装的传感器数量(多个)2 个(可选择添加一组 2 个传感器,最多 8 个传感器。
采样率100 毫秒
沉积程序数量999
过程程序数量99
数字输入点14(可以选择添加一组 14 个点,最多 56 个点。
数字输出点8(可以选择添加一组 8 个点,最多 32 个点。
模拟输出点2(可以选择添加一组 2 个点,最多 16 个点。
模拟输出范围-10 至 +10V
通信方式以太网 (1000BASE-T/100BASE-TX/10BASE-T)
RS-232C
USB(B 型,用于使用专用软件设置)
外部尺寸(宽 x 深 x 高)CRTM-R1:约 480 x 320 x 130 毫米
CTM(-D):约 80 x 152 x 53 毫米
重量 (kg)CRTM-R1: 5.3 千克(安装选件时最高可达 5.8 千克)
CTM(-D): 0.6 千克
效用交流 100 至 240V±10%,50/60Hz
最大功耗150瓦
合适的保险丝250V 2.5A (2 个 5 x 20mm)
IP 防护等级IP20 防护等级
过电压类别第二类
高度海拔 2000m 以下
污染水平2
经营环境温度 5 至 40°C
湿度 20 至 85%RH(无冷凝)
存储环境温度 -10 至 60°C
湿度 20 至 85%RH(非通电,无冷凝)
预热时间约 30 分钟
适用标准CE

* 1:这是 Tooling = 100 且 Density = 1
* 2 时的值:这是 Tooling = 100 且 Density = 1 时转换频率分辨率的值。



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